一个用了一定会后悔的东西~

因此，个用定L5M85的δ相在循环过程中表现出纯固溶体行为。

c，后悔s-Pt/1T′-MoS2的原子分辨率HAADF-STEM图像，显示了孤立的Pt单原子分散在1T′-MoS2纳米片上。e，东西典型1T′-MoS2纳米片的HAADF-STEM图像。

【导读】纳米科学与纳米技术领域的不断发展为我们提供了一系列强大的工具，个用定使我们能够精确地设计和制备新型纳米材料，个用定以满足日益增长的科学和工程需求。不同的TMD晶相可能会影响铂的生长方式和原子分散度，后悔从而直接影响催化性能。这项研究结果为设计高性能催化剂提供了有价值的洞察力，东西并在酸性介质中取得了卓越的电催化性能，为未来重要反应的催化剂研发提供了新的思路。

TMDs是由过渡金属层和硫原子层交替排列而成的二维晶格结构，个用定拥有出色的电学、个用定光学和力学性质，使其在电子器件、能源存储和催化领域具有广泛的应用前景。后悔【数据概览】图1.制备和表征剥离的1T′-MoS2纳米片。

d(i)–f(i)中的黄色、东西蓝色和红色小球分别表示S、Mo和Pt原子。

个用定原文详情：Shi,Z.,Zhang,X.,Lin,X.etal.Phase-dependentgrowthofPtonMoS2forhighlyefficientH2evolution.Nature621,300–305(2023).https://doi.org/10.1038/s41586-023-06339-3.本文由Andy供稿。近年来发展的新型高熵合金材料具有诸多新奇特性，后悔为设计制备高性能的金属基润滑耐磨损材料提供了崭新的空间，后悔是目前材料学和摩擦学研究的热点和前沿。

（c，东西d）通过EDS线扫获得的图412a和c中标记区域中沿异质相的成分波动图3 当前合金与其它报道的块体合金和复合材料在宽温域内的耐磨性对比图4 Ni3X和NiX在室温磨损后的亚表面微观结构。个用定（f1-f3）HRTEM图像及其相应的FFT/IFFT显示了由不同滑移系的两个不全位错反应形成的LC锁。

后悔（g1-g3）HAADF-STEM图像和相应的FFT和IFFT显示了A2相周围的高密度纳米变形孪晶图5 Ni3X和NiX在800ºC磨损后的亚表层结构。（a，东西b）Ni3X的磨损诱导的亚表面结构的BF-TEM图像。